盐南高新区企业智芯达自研设备实现国产化替代

　　填补国内空白！盐南高新区企业智芯达自研设备实现国产化替代

　　近日，落户盐城盐南高新区的智芯达真空设备(江苏)有限公司自研国产首套硅基显IZO低温低损伤磁控溅射设备完成整机调试、验收并发货交付下游硅基Micro OLED头部产线。这是继去年企业首台(套)巨量转移侧边磁控溅射成膜机在盐南成功下线后，真空高端装备领域的又一项里程碑式创新成果。标志着我国在AR/VR核心硅基显示镀膜装备领域实现关键国产化突破，彻底打破海外设备长期垄断格局。

　　硅基Micro OLED(OLED on Silicon)是AR/VR微型显示、车载高端近眼显示的核心器件，其有机发光层热敏性极强，传统进口溅射设备高温、高能粒子轰击易造成有机层损伤，直接影响屏幕发光效率、寿命与良率，本次下线设备搭载智芯达自主研发的核心专利技术，将镀膜基底温度稳定控制在40℃—60℃区间，大幅降低高能粒子对硅基晶圆有机膜层的冲击损伤；配合特殊对靶结构设计，膜层均匀性误差控制在±2%以内，厚度精度达纳米级，整机核心工艺指标全面对标国际一线进口设备，在低温防护能力、量产产能、成品良率管控等多项综合性能上实现反超。

　　智芯达副总洪耀表示，设备研发时，客户要求四个月内完成交付，而海外同规格设备常规交付周期普遍长达十个月以上。为在极短周期内实现对标甚至超越进口设备的工艺性能，研发团队针对性开展定制化特殊结构设计，同步完成全流程关键零部件国产化替代，啃下周期短、标准高、国产化三重硬骨头。也成功填补国内硅基显示专用溅射装备空白，为国内近眼显示厂商提供高性价比、全流程国产化工艺解决方案，有效降低产线设备采购与运维成本，加速国内AR/VR、车载硅基显示产业链自主可控进程。

　　在装备成功落地量产、实现国产化突破的基础上，智芯达并未止步现有成果，始终深耕高端真空镀膜设备细分赛道，迭代核心产品，持续拓宽技术应用版图。在已有的小尺寸硅基IZO低温低损镀膜技术基础上，公司同时研发升级了大尺寸TCO低温低损伤镀膜设备，该设备能够彻底解决大尺寸OLED显示采用传统高成本蒸镀设备制作透明金属阴极的技术痛点。另外，第三款面向半导体芯片电磁屏蔽领域的镀膜设备，该镀膜技术可以取代厚重金属屏蔽罩，解决5G/6G通信等高密高集成度场景下对电磁屏蔽的苛刻需求。目前，已通过两家海外终端及半导体芯片头部客户测试。“公司的定位就是解决高端真空镀膜设备细分领域长期被国外垄断的‘卡脖子’技术难题。”洪耀透露，第四款全新装备正紧锣密鼓的研发，并完成首台样机的组装测试，聚焦半导体TGV高深宽比磁控溅射镀膜技术，取代TSV封装互连技术，未来将广泛应用于2.5D/3D先进芯片封装场景。

　　智芯达现已搭建起完整的自主知识产权体系，设备核心腔体、磁控阴极、真空传动系统、智能电控单元全部实现本土自研配套，累计持有国内外授权专利60余项。总经理吴哲镐表示，企业将持续迭代升级现有成熟产品，加大高端真空镀膜装备研发投入，推动多款自研溅射设备规模化落地量产，以自主装备技术赋能国内新型显示产业高质量发展。

　　此次硅基显示核心镀膜装备实现国产首台突破，是盐南培育真空装备新质生产力、做强新型显示配套产业链的关键标志性成果。下一步，盐南高新区将持续聚焦战略性新兴赛道，强化企业科创扶持、产业链要素供给、产业载体配套全链条保障，持续引进培育优质科创企业，壮大以智芯达为代表的高端装备产业集群，以硬核科创突破持续激活区域新质生产力。

　　新华日报·交汇点记者 华钰

　　通讯员 布梦茹 李苏卫